集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺

问题描述:

集成电路制备过程中哪些关键步骤需要清洗工艺
1个回答 分类:综合 2014-11-25

问题解答:

我来补答
IC制备过程中大部分步骤都需要进行清洗,尤其是涉及腐蚀、离子冲击等;一些敏感层次制备前后也需要清洗,例如栅氧;清洗分很多种类,不同的试剂清洗目的不一样,有的是去除残氧、有的去除离子杂质,有的是中和电荷等等.
 
 
展开全文阅读
剩余:2000
上一页:弧度制96页
也许感兴趣的知识